| Identangaben | (  NÖLB ; dnb ) * ro * IDN: 17060753 | Erf-Datum: 27.05.2022 | Kor-Datum: 22.06.2022 |
| SWD-IDN | 1258320657 |
| Schlagwort | p.Hoheisel, Tobias |
| Ländercode | ZZ |
| Verweis | p.Hoheisel, Tobias Nikolaus |
| Zuordnung | s.Jurist [Beruf (beru)] |
| Zuordnung | s.Patentanwalt [Beruf, charakteristisch (berc)] |
| Zuordnung | s.Chemiker [Beruf (beru)] |
| Information | [Quelle Biographie/Historie:] Promotion 2011 auf dem Gebiet der Kohlenstoffmaterialien an der ETH Zürich sowie der EPFL Lausanne |
| GND | [ Link zu DNB/GND ] |
| Wikipedia | [ Link zu Wikipedia ] |
| LCC | [ Link zur LCC ] |
| Resolver | [ Resolver ] |
| wmflabs | [ Personensuche ] |
| QRCode | [[targeturl]]/PSI/redirect.psi?f_search=!26sessid=---!26strsearch=IDU=278E3D44-3AF-0C936-00001248-56217B76!26pool=GLBN!26fil_select=SWT!26 |